十年前，政钰建立了多功能涂布实验线与实验室，主要用于涂布模具以及相关设备开发研究使用，但未料许多客户受限于实验室与设备成本，以及各种因素考量，纷纷要求租用我们的设备，加上我们有经验丰富的涂布技术工程师团队，除了协助实验外，还能提供许多专业建议，对研发工程师们来说，无疑是最经济实惠又务实的开发管道，政钰的实验室与设备可以说是研发单位与工程师没的救星！

( 政钰不仅提供租用实验设备服务，还提供经验丰富团队的专业建议。 )

目前为止已经协助数十位国内外客户研发新产品、优化现有制程、评估修改与购置设备，每周都有不同公司研发工程师预约做实验，而从去年到今年，因应新能源市场快速崛起，除了现有的多功能实验机以及桌上型平面涂布机外，特别设计制造大型平面涂布机 (TAB2001)，主要用于平面基板高均匀度湿式涂布制程，应用于平面显示器制程、触控面板制程、背光模组、透明导电基板，太阳能制程等产业，可使用之涂料包括光阻、导电高分子、硬化涂层、光学胶、铜铟镓氧化物浆料等。

( 大型平面涂布机 (TAB2001)，主要用于平面基板高均匀度湿式涂布制程 )

TAB2001平面涂布机相关配置如下：

供胶系统：

采用预计量涂布方式搭配封闭型供胶系统，压力稳定，可节省涂料及保持涂料品质，

( 封闭型供胶系统，压力稳定，节省涂料。 )

政钰自行研发精密狭缝涂布模具：

采用进口专利不锈钢SUS630系列制造，高精密加工研磨，真直度、唇口的真平度可控制在2.5um以内，其唇口表面平均粗糙度在0.03um以下，自动模具清洁系统，达成更久而稳定的生产效率，延长机台模具涂布时间，降低模具维护时间成本。

(自行研发涂布模具搭配自洁系统以及模具自动水平校正系统。 )

另有模具水平校正系统，确保不会因拆卸模具保养后，产生组装位置误差影响涂布品质，重复精度校正2µm。

• 延伸阅读: 涂布制程大跃进~~软硬兼具的ITSM妙方

真空平台与气浮控制系统：

采用大理石真空平台定位吸附，可适用多种不同生产尺寸定位机构共用，搭配气浮轴承，透过线性马达控制可确保涂布移动时的稳定性，对于表面涂布平滑度高标要求制程来说，减少移动产生的顿痕。

另有上下料顶针系统，伺服马达控制，增加稳定性可以配合自动化设备上下料程控做整体速度控制调整。

电控与操作系统：

可自动记录生产条件，协助生产自动化规划，可透过手机与平板连线操作，介面简单，可让操作者轻易上手。

( 大型平面涂布机 (TAB2001)，主要用于平面基板高均匀度湿式涂布制程 )

如果客户购置TAB2001实验机台，可依据客户需求设计控制系统或者增加其他设备，如：紫外光硬化，烘箱，真空干燥等。

研发往往都需要耗费许多时间与金钱成本，在竞争激烈的市场，谁能更快速的将创新转化成实质产品，创造商机，谁就是最大的赢家，在研发与优化的路上，政钰始终是客户最好的伙伴与最坚强的支援后盾。